ASML的成功并非偶然。自1984年成立以来,公司凭借持续的技术创新和与全球顶尖半导体企业的深度合作,逐步确立了其在光刻机领域的领导地位。特别是在EUV光刻机的研发上,ASML不仅克服了技术上的重重难关,还成功实现了商业化应用,使得台积电、三星等企业 ...
2023年9月,许多人为“光刻厂”的构想喜大普奔。据说中国可以另辟蹊径,不是用一台台的光刻机,而是用加速器做一个巨大的光源,可以供28 nm、14 nm、7 nm、5 ...
在2025年的前夕,中国科技创新领域传来了一系列振奋人心的消息。从六代机的成功首飞到两栖攻击舰四川舰的下水,这些重大事件不仅展示了中国在国防工业方面的雄厚实力,也在一定程度上预示着国家在科技创新方面的坚定决心。而在半导体领域,同样不乏令人瞩目的好消息 ...
数据显示,中国已成为全球光刻机巨头荷兰阿斯麦(ASML)的最大客户,也是其光刻机的头号买家。此前,荷兰政府做出政策改变,根据相关敏感商业信息法规,把阿斯麦数十亿欧元的对华销售排除在敏感商品出口披露之外,即不再披露具有潜在军事用途的“军民两用”产品的出 ...
EUV光刻机的波长为13.5nm,而100KeV电子束的波长只有0.004nm,波长短使其在分辨率方面与EUV相比有绝对的优势,也使得电子束能够实现EUV光刻都实现不了 ...
哈尔滨工业大学(哈工大)近日宣布,已成功研发出13.5奈米极紫外光(EUV)光源技术,打破此领域由美国企业垄断的局面,也为大陆的国产EUV曝光机 ...
按照官方的说法,EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款,其将拥有更高的晶圆吞吐量(EXE:5000为每小时185片以上),可以更好的为2nm工艺量产做支撑。
最近,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,这种激光器比现在行业内的标准CO2激光器将EUV光源 ...
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IT之家 2 月 1 日消息,ASML 总裁兼首席执行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上表示,该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN ...
15 天on MSN
雪佛兰近日在海外市场上即将推出的一款全新小型电动跨界车——Spark EUV,引发了广泛关注。这款车型实际上是基于上汽通用五菱在2024年1月发布的宝骏悦也 Plus的海外换标版本。 据悉,宝骏悦也 Plus是专为中国市场打造的一款加长五门版本车型,其加长设计和增加的车门数量,使其在空间实用性上有了显著提升。而雪佛兰Spark ...
碳纳米管为防止极紫外光刻(EUV lithography)中的缺陷提供了一种颠覆性的解决方案,助力半导体行业朝着极致微型化发展,并提升芯片可靠性。 在人工智能和高度互联技术普及的推动下,半导体行业规模预计在未来十年内将翻倍。然而,尽管微型芯片作为支撑从 ...
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