日本王子控股将开展面向2纳米以下最先进半导体的材料业务。开发出了使用木质成分的光刻胶（感光材料），目标是到2028年实现商业化。在日本国内纸张需求减少的情况下，王子控股把利用木质（纸张原料）及现有设备来生产化工产品视为增长支柱。

作为晶圆代工行业中最重要的产品，光刻机的优秀与否将决定制程工艺的先进性，而目前在EUV领域，毫无疑问ASML成为了绝对的巨头，几乎垄断了EUV光刻机的生产与研发。广大晶圆代工巨头也等待着 ASML ...

快科技2月1日消息，据国外媒体报道称，ASML已经确认，即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，相比上代来说，表现更加强悍，当然不会卖给中国厂商。 按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA ...

半导体光刻胶材料企业Samyang ...

在全球科技竞争日益激烈的背景下，“芯战”成为了中美之间博弈的重要战场之一。自美国及其盟友对中国的半导体产业实施严格的技术封锁以来，这场没有硝烟的战争就一直在悄然进行着。从最初的禁止最先进的EUV光刻机出口到后来进一步收紧对中端DUV设备的管控，这些措施无疑给中国带来了巨大挑战。然而，在重重困难面前，中国并未停下脚步，而是通过自主创新和技术突破，逐步走出了一条属于自己的道路。

就算有了EUV光刻机，中芯国际能干掉台积电吗？大实话：比登天还难,台积电,英伟达,英特尔,光刻机,中芯国际,asml,纳米芯片,知名企业,台湾积体电路制造 ...

按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

同年9月，荷兰政府表示将扩大用于生产芯片的光刻机的出口限制范围。阿斯麦公司若要向中国出口1970i和1980i型号浸润式DUV光刻机，以及用于光刻机生产的零部件、更新软件和相关服务，需要向政府申请许可。

中国初创公司深度求索（DeepSeek）推出低成本又高效的人工智能模型令金融市场撼动，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）高管对此表示欢迎，指深度求索解决了人工智能行业面对两大问题——成本太高和能源消耗太大。

IT之家 1 月 26 日消息，泛林集团 Lam Research 美国加州当地时间本月 14 日宣布，其干式光刻胶技术成功通过 imec 认证，可直接在逻辑半导体后道工艺（IT之家注：BEOL，互联层制作）中实现 28nm 间距的直接图案化，能满足 ...

中国科学家正在开创极紫外光刻技术（Extreme Ultraviolet Lithography，EUV）开发的新方法，这一技术的进展为大规模生产先进半导体芯片铺平了道路。在当前研究人员努力规避美国严格制裁的背景下，这些突破显得尤为重要。

光刻机领域的领头羊，荷兰ASML公司，近日正式揭晓了其2024年第四季度及全年财务业绩。在技术创新与市场需求的双重驱动下，该公司去年成功交付了三台High-NA EUV光刻系统，其中第二台设备在年末的第四季度顺利完成交付。