半导体光刻胶材料企业Samyang ...

日本王子控股将开展面向2纳米以下最先进半导体的材料业务。开发出了使用木质成分的光刻胶（感光材料），目标是到2028年实现商业化。在日本国内纸张需求减少的情况下，王子控股把利用木质（纸张原料）及现有设备来生产化工产品视为增长支柱。

作为晶圆代工行业中最重要的产品，光刻机的优秀与否将决定制程工艺的先进性，而目前在EUV领域，毫无疑问ASML成为了绝对的巨头，几乎垄断了EUV光刻机的生产与研发。广大晶圆代工巨头也等待着 ASML ...

在全球科技竞争日益激烈的背景下，“芯战”成为了中美之间博弈的重要战场之一。自美国及其盟友对中国的半导体产业实施严格的技术封锁以来，这场没有硝烟的战争就一直在悄然进行着。从最初的禁止最先进的EUV光刻机出口到后来进一步收紧对中端DUV设备的管控，这些措施无疑给中国带来了巨大挑战。然而，在重重困难面前，中国并未停下脚步，而是通过自主创新和技术突破，逐步走出了一条属于自己的道路。

在这之前，ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机（一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统），这标志着他们在引入0.55 NA EUV的道路上又迈出了一步。

据国外报道，荷兰光刻机制造商ASML已经确认将向客户交付最新款的EUV光刻机EXE:5200。这款新机型相比上一代产品来说更为强大，因此不会向中国厂商销售。 官方表示，EXE:5200是初代High NA EUV光刻机EXE:5000的升级版。新款光刻机拥有更高的晶圆吞吐量，即每小时可加工185片以上晶圆，能够更好地支持2nm工艺的量产。

快科技2月1日消息，据国外媒体报道称，ASML已经确认，即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，相比上代来说，表现更加强悍，当然不会卖给中国厂商。 按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

IT之家 2 月 1 日消息，ASML 总裁兼首席执行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上表示，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN ...

就算有了EUV光刻机，中芯国际能干掉台积电吗？大实话：比登天还难,台积电,英伟达,英特尔,光刻机,中芯国际,asml,纳米芯片,知名企业,台湾积体电路制造 ...

近期，据Tom's Hardware外媒报道，日本半导体行业新星Rapidus的首席执行官小池淳义在公开访谈中透露，该公司计划在北海道千岁市的创新集成制造工厂（IIM-1）及规划中的IIM-2工厂内，部署总共10台极紫外（EUV）光刻机。然而，具体的安装时间表尚未对外公布。 回顾去年12月的报道，Rapidus曾提及将引入TWINSCAN ...

IT之家 1 月 31 日消息，据外媒 Tom's Hardware 报道，日本先进半导体制造商 Rapidus 首席执行官小池淳义在接受媒体采访时表示，Rapidus 计划在其位于日本北海道千岁市的创新集成制造工厂（IIM-1）和未来的 IIM-2 共安装 10 台 EUV 光刻机， 不过其没有透露具体的安装执行时间表 。

ASML总裁兼CEO傅恪礼（Christophe Fouquet）表示， 2024年第四季度的收入创历史新高，净销售额和毛利率均超出预期，这主要得益于升级管理业务的增长，并且2024年的整体销售额也再创纪录。