作为晶圆代工行业中最重要的产品，光刻机的优秀与否将决定制程工艺的先进性，而目前在EUV领域，毫无疑问ASML成为了绝对的巨头，几乎垄断了EUV光刻机的生产与研发。广大晶圆代工巨头也等待着 ASML ...

在全球科技竞争日益激烈的背景下，“芯战”成为了中美之间博弈的重要战场之一。自美国及其盟友对中国的半导体产业实施严格的技术封锁以来，这场没有硝烟的战争就一直在悄然进行着。从最初的禁止最先进的EUV光刻机出口到后来进一步收紧对中端DUV设备的管控，这些措施无疑给中国带来了巨大挑战。然而，在重重困难面前，中国并未停下脚步，而是通过自主创新和技术突破，逐步走出了一条属于自己的道路。

日本王子控股将开展面向2纳米以下最先进半导体的材料业务。开发出了使用木质成分的光刻胶（感光材料），目标是到2028年实现商业化。在日本国内纸张需求减少的情况下，王子控股把利用木质（纸张原料）及现有设备来生产化工产品视为增长支柱。

中国科学家正在开创极紫外光刻技术（Extreme Ultraviolet Lithography，EUV）开发的新方法，这一技术的进展为大规模生产先进半导体芯片铺平了道路。在当前研究人员努力规避美国严格制裁的背景下，这些突破显得尤为重要。

‍‌ ‍‌‍‌‍‌‍‌‍‌‍‌‍‌‍‌‍‌当阿斯麦CEO彼得·温宁克2019年翘着二郎腿宣称： 中国人拿图纸也造不出光刻机 时，他或许想不到，2025年的中国会用一台价格仅其1/30的28纳米光刻机，扇肿整个西方半导体联盟的脸。

这一进步，可能为新一代“超越EUV”的光刻系统铺平道路，从而生产出更小、更强大、制造速度更快、同时耗电量更少的芯片。简而言之，美国开发 ...

全球最大的光刻机企业ASML日前表示不再公开对中国销售光刻机的数据，此举可能是它在反思此前公布数据，导致美国追溯相关的数据，导致企业的商业机密可能因此泄露，这对于它的经营不利。

IT之家 2 月 1 日消息，ASML 总裁兼首席执行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上表示，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN ...

中国初创公司深度求索（DeepSeek）推出低成本又高效的人工智能模型令金融市场撼动，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）高管对此表示欢迎，指深度求索解决了人工智能行业面对两大问题——成本太高和能源消耗太大。

泛林干式光刻胶在后道工艺中的图案化能力目前已在 0.33 (Low) NA EUV 光刻机上得到了验证，未来还可扩展至逐步投入使用的 0.55 (High) NA EUV 光刻平台上。 广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。

2025年1月14日，一场聚焦彩色光刻胶产业发展的高端交流会在茂名清荷科技有限公司成功举办。此次交流会汇聚了中国科学院院士欧阳钟灿、北京大学王漪教授、北京交通大学徐征教授、中国光学光电子行业协会液晶分会常务副理事长兼秘书长梁新清、常务副秘书长胡春明、 ...

半导体光刻胶材料企业Samyang ...